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更新時(shí)間：2024-03-15 
瀏覽次數(shù)：304兆聲波噴嘴中的換能器產(chǎn)生一個(gè)兆聲波，通過(guò)流動(dòng)液體（如去離子水）傳輸?shù)交灞砻?。兆聲波能量集中?毫米或4毫米的一個(gè)小點(diǎn)上。
SONOSYS®兆聲波噴嘴的頻率為：400kHz （新）/ 600 kHz（新）/1兆赫/2兆赫/3兆赫/4兆赫和5兆赫。
無(wú)水槽的兆聲波噴嘴系統(tǒng)能夠提供先進(jìn)的非接觸清洗工藝。
應(yīng)用：
清洗單個(gè)晶圓、掩模、LCD、基板和微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS），以及光學(xué)行業(yè)中600 kHz的較大顆粒，來(lái)自醫(yī)療設(shè)備和傳感器
兆聲波能量集中在2毫米或4毫米的一個(gè)小點(diǎn)上。
SONOSYS®兆聲波噴嘴的頻率為：400kHz （新）/ 600 kHz（新）/1兆赫/2兆赫/3兆赫/4兆赫和5兆赫。
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